всероссийский научно-практический журнал
  • ISSN 2072-8158
  • -
  • Роспечать: 48626
  • Пресса России: 44722

Комбинированная окислительная деструкция орто- и пара-хлорфенола в воде ультрафиолетовым излучением эксиламп

Опубликовано в журнале «Вода: химия и экология» № 9 за 2012 год, стр. 32-36.
Рубрика: Технологии промышленной и бытовой очистки вод

 

Воробьева Н.И. аспирант, ФГБУН Байкальский институт природопользования Сибирского отделения Российской академии наук
Матафонова Г.Г. кандидат биологических наук, старший научный сотрудник, ФГБУН Байкальский институт природопользования Сибирского отделения Российской академии наук
Батоев В.Б. доктор биологических наук, профессор, заведующий Аналитическим центром, ФГБУН Байкальский институт природопользования Сибирского отделения Российской академии наук

Аннотация:
Проведено сравнительное исследование эффективности прямого фотолиза и комбинированной окислительной деструкции орто- и пара-хлорфенола в водном растворе ультрафиолетовым излучением KrCl (222 нм) и XeBr (282 нм) эксиламп в присутствии пероксида водорода. При комбинированной обработке достигнута высокая степень минерализации исходных загрязнителей и количественно подтверждена генерация гидроксильных радикалов.

Ключевые слова: пероксид водорода, ультрафиолетовые эксилампы, хлорфенол

Ссылка для цитирования:
Воробьева Н.И., Матафонова Г.Г., Батоев В.Б. Комбинированная окислительная деструкция орто- и пара-хлорфенола в воде ультрафиолетовым излучением эксиламп // Вода: химия и экология. — 2012. — № 9. — c. 32-36. — http://watchemec.ru/article/24909/

Литература:
1. Sosnin E.A. Applications of capacitive and barrier discharge excilamps in photoscience / E.A. Sosnin, T. Oppenländer, V.F. Tarasenko // J. Photochem. Photobiol. C: Photochem. Rev. 2006. № 7. P. 145-163.
2. Matafonova G. Degradation of chlorophenols in aqueous media using UV XeBr excilamp in a flow-through reactor / G. Matafonova, N. Chris tofi, V. Batoev, E. Sosnin // Chemosphere. 2008. № 70. P. 1124-1127.
3. Gómez M. Comparison of alternative treatments for 4-chlorophenol removal from aqueous solutions: Use of free and immobilized soybean peroxidase and KrCl excilamp / M. Gómez, G. Matafonova, J.L. Gómez, V. Batoev, N. Christofi // J. Hazard. Mater. 2009. № 169. P. 46-51.
4. Gómez M. Testing a KrCl excilamp as new enhanced UV source for 4-chlorophenol degradation: Experimental results and kinetic model / M. Gómez, M.D. Murcia, J.L. Gómez, G. Matafonova, V. Batoev, N. Christofi // Chem. Eng. Process. 2010. № 49. P. 113-119.
5. Gómez M. Photodegradation of 4-chlorophenol using XeBr, KrCl and Cl2 barrierdischarge excilamps: A comparative study / M. Gómez, M.D. Murcia, N. Christofi, E. Gómez, J.L. Gómez // Chem. Eng. J. 2010. № 158. P. 120-128.
6. Батоев В.Б. Прямой фотолиз хлорфенолов в водных растворах ультрафиолетовым излучением эксиламп / В.Б. Батоев, Г.Г. Матафонова, Н.И. Филиппова // Журн. прикл. химии. 2011. Т. 84. № 3. С. 415-419.
7. Tchaikovskaya O.N. The phototransformation of 4-chloro-2-methylphenoxyacetic acid under KrCl and XeBr excilamps irradiation in water / O.N. Tchaikovskaya, E.A. Karet nikova, I.V. Sokolova, G.V. Mayer, D.A. Shvor nev // J. Photochem. Photobiol. A: Chem. 2012. № 228. P. 8-14.
8. Gómez M. Enhancement of 4-chlorophenol photodegradation with KrCl excimer UV lamp by adding hydrogen peroxide / M. Gómez, M.D. Mur cia, E. Gómez, J.L. Gómez, R. Dams, N. Chris tofi // Separ. Sci. Technol. 2010. № 45. P. 1603-1609.
9. Gómez M. A KrCl exciplex flow-through photoreactor for degrading 4-chlorophenol: Experimental and modelling / M. Gómez, M.D. Murcia, J.L. Gómez, E. Gómez, M.F. Maximo, A. Garcia // Appl. Catal. B: Environ. 2012. № 117-118. P. 194-203.
10. Murcia M.D. A new substrate and byproduct kinetic model for the photodegra dation of 4-chlorophenol with KrCl exciplex UV lamp and hydrogen peroxide / M.D. Mur cia, M. Gómez, E. Gómez, J.L. Gómez, A.M. Hidal go, N. Christofi // Chem. Eng. J. 2012. № 187. P. 36-44.
11. Greenberg A.E. Standard methods for the examination of water and wastewater / A.E. Greenberg, L.S. Clesceri, A.D. Eaton. Washington D.C.: APHA AWWA WEF, 1992.
12. Методика выполнения измерений химического потребления кислорода в пробах природных и очищенных сточных вод титриметрическим методом. ПНД Ф 14.1:2.100-97, М.: Госкомитет РФ по охране окружающей среды, 2004. 13 с.
13. Elovitz M. Hydroxyl radical/ozone ratios during the ozonation processes. I. The Rct Concept / M. Elovitz, U. von Gunten // Ozone Sci. Eng. 1999. № 221. P. 239-260.
14. Cho M. Linear correlation between inactivation of E. coli and OH radical concentration in TiO2 photocatalytic disinfection / M. Cho, H. Chung, W. Choi, J. Yoon // Water Res. 2004. № 38. P. 1069–1077.
15. Mamane H. Inactivation of E. coli, B. subtilis spores, and MS2, T4, and T7 phage using UV/H2O2 advanced oxidation / H. Mamane, H. Shemer, K.G. Linden // J. Hazard. Mater. 2007. № 146. P. 479-486.
16. Çatalkaya E.Ç. Photochemical degradation and mineralization of 4-chlorophenol / E.Ç. Çatalkaya, U. Bali, F. Sengül // Environ. Sci. Pollut. Res. 2003. № 10. P. 113-120.
17. Rayne S. Mechanistic aspects regarding the direct aqueous environmental photochemistry of phenol and its simple halogenated derivatives. A review / S. Rayne, K. Forest, K.J. Friesen // Environ. Int. 2009. № 35. P. 425-437.
18. Hirvonen A. Formation of hydroxylated and dimeric intermediates during oxidation of chlorinated phenols in aqueous solution / A. Hirvonen, M. Trapido, J. Hentunen, J. Tarha nen // Chemosphere. 2000. № 41. P. 1211-1218.
19. Shen Y-Sh. The effect of light absorbance on the decomposition of chlorophenols by ultraviolet radiation and U.V./H2O2 processes / Y-Sh. Shen, Y. Ku, K-Ch. Lee // Water Res. 1995. № 29. P. 907-914.
20. Benitez F.J. Contribution of free radicals to chlorophenols decomposition by several advanced oxidation processes / F.J. Benitez, J. Beltran-Heredia, J.L. Acero, F.J. Rubio // Chemosphere. 2000. № 41. P. 1271-1277.
21. Benitez F.J. Oxidation of several chlorophenolic derivatives by UV irradiation and hydroxyl radicals / F.J. Benitez, Beltran-Heredia, J.L. Acero, F.J. Rubio // J. Chem. Technol. Biotechnol. 2001. № 76. P. 312-320.